上海新阳申请锗硅刻蚀液相关专利，该刻蚀液可选择性刻蚀GAA中锗硅牺牲层

7月29日消息，国家知识产权局信息显示，上海新阳半导体材料股份有限公司申请一项名为“一种锗硅刻蚀液的应用”的专利。申请公布号为CN122465595A，申请号为CN202610511631.2，申请公布日期为2026年7月28日，申请日期为2026年4月17日，发明人王溯、马丽、邢诗惠、韩强，专利代理机构上海弼兴律师事务所，专利代理师陈卓，分类号C09K13/08、H10P50/64。

专利摘要显示，本发明提供了一种锗硅刻蚀液的应用。具体地，本发明公开了一种锗硅刻蚀液在选择性刻蚀GAAMOSFET结构中牺牲层中的应用，所述锗硅刻蚀液由如下原料各组分混合制得，所述原料包括如下质量分数的组分：0.1%‑5%的氟化物、5%‑70%的氧化剂、0.1%‑2%抑制剂、0.5%‑5%缓冲组分和溶剂；溶剂补足余量；所述的锗硅刻蚀液能够选择性减慢对GAAMOSFET结构中硅和氧化硅的刻蚀速率，选择性对硅‑锗合金进行刻蚀。

上海新阳是国内领先的电子化学品核心供应商，主营半导体关键材料，拥有深厚技术壁垒与全产业链配套优势。公司成立于2004年5月12日，2011年6月29日于深圳证券交易所上市，注册及办公地址均位于上海市。

上海新阳主营业务分为两大板块，一是集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研产销服，为客户提供整体化解决方案；二是环保型、功能性涂料的研产销及相关服务，提供专业整体涂装解决方案。公司所属申万行业为电子-电子化学品Ⅱ-电子化学品Ⅲ，同时覆盖集成电路、半导体设备、中芯国际概念等热门赛道。

2025年上海新阳实现营业收入19.37亿元，在36家同行业企业中排名第14位，略高于19.33亿元的行业平均水平，超出15.26亿元的行业中位数，行业内营收排名前两位的企业分别为西陇科学（73.31亿元）、国瓷材料（45.83亿元）。从业务结构来看，集成电路材料贡献营收14.79亿元，占比76.35%；涂料品营收4.2亿元，占比21.68%；集成电路材料配套设备及配件营收3424.54万元，占比1.77%；其他业务营收400.22万元，占比0.21%。盈利端，公司2025年实现净利润3.01亿元，在36家同行业企业中位列第9，大幅高于1.8亿元的行业平均数与1.25亿元的行业中位数，行业内净利润排名前两位的企业分别为鼎龙股份（7.96亿元）、安集科技（7.84亿元）。

上海新阳半导体材料股份有限公司近期专利情况如下：